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    **经济基本都保持着两位数的增长，即便受到**金融危机的影响，2009年GDP也能保持8%以上的增长，2011年也达到9%以上。经济的增长会带来很多好处：首先，经济的发展给企业带来了蓬勃发展的机会，企业便会创造更多的利润，使企业有能力进行投资;其次，经济的快速发展必然带动相关产业的投资。经济的发展更使气体产业受益匪浅，气体相关产业扩大投资，必然要增加对气体的需求。所以说经济快速增长时期，也是进***体投资的**好时机。随着**经济的快速发展，作为国民经济基础工业要素之一的工业气体行业，在国民经济中的重要地位和作用日益凸显。2000年后，工业气体行业进入快速发展阶段，庞大的市场需求为**气体行业带来广阔的发展空间，未来我国工业气体行业将继续保持快速发展趋势。预计未来5年期间，**工业气体市场将保持至少11%的增长率，工业气体的应用领域十分***，传统行业主要为钢铁、化工，新兴的应用领域包括金属加工、煤化工、玻璃、电力、电子、医疗、公路养护、食品饮料等各行各业。2008年，钢铁、化工两个行业的占比为57%，有色以及其他行业对氧气的应用相对分散，总共占比为43%。到2015年。钢铁、化工两个行业的占比将下降到47%，而其他行业上升到53%。重庆标准气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。成都一氧化氮标准气体厂家

    而使有光刻胶掩蔽的区域保存下来,这样便在基片表面得到所需要的成像图形。蚀刻的基本要求是,图形边缘整齐,线条清晰,图形变换差小,且对光刻胶膜及其掩蔽保护的表面无损伤和钻蚀。蚀刻方式有湿法化学蚀刻和干法化学蚀刻。干法蚀刻所用气体称蚀刻气体,通常多为氟化物气体,例如四氟化碳、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。干法蚀刻由于蚀刻方向性强、工艺控制精确、方便、无脱胶现象、无基片损伤和沾污,所以其应用范围日益***。1.特种气体(Specialtygases)：指那些在特定领域中应用的,对气体有特殊要求的纯气、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。特种气体门类繁多,通常可区分为电子气体、标准气、**气、医用气、焊接气、**气等,***用于电子、电力、石油化工、采矿、钢铁、有色金属冶炼、热力工程、生化、环境监测、医学研究及诊断、食品保鲜等领域。2、标准气体(Standardgases)：标准气体属于标准物质。标准物质是高度均匀的、良好稳定和量值准确的测定标准,它们具有复现、保存和传递量值的基本作用,在物理、化学、生物与工程测量领域中用于校.d([准测量仪器和测量过程,评价测量方法的准确度和检测实验室的检测能力,确定材料或产品的特性量值。四川乙烷标准气体厂家一氧化碳标准气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。

    是根据所需气体的含量，按体积计算。控制组分气体和释稀释气体的体积，经混合而得到的标准气体。2、所需设备注射器，定体积容器。标准气体混匀技术编辑均匀性是考察标准气体性能的一个重要指标。标准气体的特性应该是均匀的即在规定的范围内其量值保证不变。不论采用哪种方法制备的标准气体，都需要进行混匀处理。标准气体的混匀方法有：热处理法、钢瓶滚动法、特殊充填法、自然扩散法、其他混匀方法等，几种混匀操作方法如下：[1]热处理法一般将制备好的标准气体的容器置于40℃以下的温水浴中加热，使气体组分较快的混合均匀。钢瓶旋转滚动法将钢瓶水平放在混匀半置的滚动轴上，使它绕轴心旋转民。该法混匀所需时间短，操作简单。特殊充填法在充填某些气体时，可将钢瓶倒立并保持45℃的倾斜，从下端充气，促使气体绝热膨胀，产生放热效应，气体可以在充填的同时混合均匀。自然扩散法将充入标准气体的钢瓶倒立在合适的位置，静止不动，靠气体本身的自然扩散来达到混合均匀，但此法所需时间较长。其他混匀方法采用静态混合容器或使用特殊构造的容器阀门，可以在很短时间内使标准气体混合均匀。不管采用哪种方法进行混匀处理，必须用另一种高精度的分析方法进行检验。

    RareGases)：元素周期表**后一族的六种惰性气体中的任何一种气体,即氦、氖、氩、氪、氙、氡。**种气体均可以空气分离方法从空气中提取。13.低压液化气体(LowPressureLiquefiedGases)：临界温度大于70℃的气体。区分为不燃无毒和不燃**、酸性腐蚀性气体;可燃无毒和可燃**、酸性腐蚀性气体;易分解或聚合的可燃气体。此类气体在充装时以及在允许的工作温度下贮运和使用过程中均为液态。包括的气体品种有一氟二氯甲烷、二氟氯甲烷、二氟二氯甲烷、二氟溴氯甲烷、三氟氯乙烷、四氟二氯乙烷、五氟氯乙烷、八氟环丁烷、六氟丙烯、氯、三氯化硼、光气、氟化氢、溴化氢、二氧化硫、硫酰氟、二氧化氮、液压石油气、丙烷、环丙烷、丙烯、正丁烷、异丁烷、1-丁烯、异丁烯、顺-2-丁烯、反-2-丁烯、R142b、R143a、R152a、氯乙烷、二甲醚、氨、乙胺、一甲胺、二甲胺、三甲胺、甲硫醇、硫化氢、氯甲烷、溴甲烷、砷烷、1,3—丁二烯、氯乙烯、环氧乙烷、乙烯基甲醚、溴乙烯。14.高压液化气体(HighPressureLiquefiedGases)：临界温度大于或等于-10℃且小于或等于70℃的气体。区分为不燃无毒和不燃**气体;可燃无毒和自燃**气体;易分解或聚合的可燃气体。此类气体充装时为液态。乙烷标准气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。

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    CVD)的方法生长一层或多层材料所用气体称为外延气体。硅外延气体有4种,即硅烷、二氯二氢硅、三氯氢硅和四氯化硅,主要用于外延硅淀积,多晶硅淀积,淀积氧化硅膜,淀积氮化硅膜,太阳电池和其他光感受器的非晶硅膜淀积。外延生长是一种单晶材料淀积并生长在衬底表面上的过程。此外延层的电阻率往往与衬底不同。5.蚀刻气体(Etchinggases)：蚀刻就是把基片上无光刻胶掩蔽的加工表面如氧化硅膜、金属膜等蚀刻掉,而使有光刻胶掩蔽的区域保存下来,这样便在基片表面得到所需要的成像图形。蚀刻的基本要求是,图形边缘整齐,线条清晰,图形变换差小,且对光刻胶膜及其掩蔽保护的表面无损伤和钻蚀。蚀刻方式有湿法化学蚀刻和干法化学蚀刻。干法蚀刻所用气体称蚀刻气体,通常多为氟化物气体,例如四氟化碳、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。干法蚀刻由于蚀刻方向性强、工艺控制精确、方便、无脱胶现象、无基片损伤和沾污,所以其应用范围日益***。6.掺杂气体(DopantGases)：在半导体器件和集成电路制造中,将某种或某些杂质掺入半导体材料内,以使材料具有所需要的导电类型和一定的电阻率,用来制造PN结、电阻、埋层等。掺杂工艺所用的气体掺杂源被称为掺杂气体。成都一氧化氮标准气体厂家